安田 幸夫

• 金属・半導体界面の単原子層制御および低コンタクト抵抗率実現に関する研究
• シリコン表面の初期酸化過程に関する研究
• Ge/Si系ヘテロエピタキシャル成長機構の研究
• Study on mono atomic control of metal semiconductor interface, and realization of low contact resistinity
• Study on initial oxidation prosses of Si surfaces
Study on mechanism of heteroepitaxial growth on Ge/Si system.

• K Ohmori, S Zaima, Y Yasuda. Trap creation in ultrathin SiO2 films due to electron injection studied by scanning tunneling microscopy/scanning tunneling spectroscopy. APPLIED SURFACE SCIENCE. 2000. 162. 395-400
• Suzumura, I, M Okada, A Muto, Y Torige, H Ikeda, A Sakai, S Zaima, Y Yasuda. Nucleation and growth of Ge on Si(111) in solid phase epitaxy. THIN SOLID FILMS. 2000. 369. 1-2. 116-120
• H Fujita, M Imade, M Sakashita, A Sakai, S Zaima, Y Yasuda. Orientation dependence of ferroelectric properties of Pb(ZrxTi1-x)O-3 thin films on Pt/SiO2/Si substrates. APPLIED SURFACE SCIENCE. 2000. 159. 134-137
• M Wasekura, M Higashi, H Ikeda, A Sakai, S Zaima, Y Yasuda. A study on initial oxidation of Si(100)-2 X 1 surfaces by coaxial impact collision ion scattering spectroscopy. APPLIED SURFACE SCIENCE. 2000. 159. 35-40
• Y Hayashi, M Yoshinaga, H Ikeda, S Zaima, Y Yasuda. Solid-phase epitaxial growth of CoSi2 on clean and oxygen-adsorbed Si(001) surfaces. SURFACE SCIENCE. 1999. 438. 1-3. 116-122

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• 結晶成長の基礎(共著)
  培風館 1997
• "Growth processes in the heteroepitaxy of Ge and Si_1-xGe_x on Si substrates using gassource molecular beam epitaxy" in "Advances in the understanding of crystal growth mechanisms"
  Elsevier Science 1997
• マイクロエレクトロニクス入門
  オーム社 1984
• Introduction of Microelectronics
  Ohm Co. 1984

• - 1965 名古屋大学 工学研究科 応用物理学専攻
• - 1965 名古屋大学
• - 1963 名古屋大学 工学部 応用物理学科
• - 1963 名古屋大学

• 工学博士
• 工学修士

• 1996 - 1998 国際真空連合(International Union for Vacuum Science, Technique, and Applications) 電子材料部門常任理事会副委員長兼プログラム委員長,電子材料部門常任理事会委員長兼プログラム委員長
• 1992 - 1998 国際真空連合(International Union for Vacuum Science,Technique,and Applications) 電子材料部門常任理事会委員
• 1992 - 1998 日本真空協会 電子材料部会日本代表,理事会理事
• 1998 - Materials Science in Semiconductor Processing 編集委員
• 1998 - J.Vacuum Science and Technology 編集委員
1993 - 1997 日本結晶成長学会 理事会理事
1992 - 1993 応用物理学会 評議員,東海支部長,理事会理事(東海代表)

Materials Science in Semiconductor Processing ,  J.Vacuum Science and Technology ,  Electrochemical Society ,  MRS(Materials Research Society) ,  日本物理学会 ,  国際真空連合(International Union for Vacuum Science, Technique, and Applications) ,  日本結晶学会 ,  日本結晶成長学会 ,  国際真空連合(International Union for Vacuum Science,Technique,and Applications) ,  日本真空協会 ,  応用物理学会