特許

J-GLOBAL ID：200903058290782299

多機能層を有する基体の製造方法

発明者： 古谷 正裕 ,  常磐井 守泰 ,  田中 伸幸
出願人/特許権者： 財団法人電力中央研究所
代理人 (2件)： 栗原 浩之 ,  村中 克年
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-100518
公開番号（公開出願番号）：特開2007-270319
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：

【課題】 表面層として耐久性(高硬度、耐スクラッチ性、耐摩耗性、耐薬品性、耐熱性)に優れた酸化ハフニウム層からなる多機能層を有する基体の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも表面層がハフニウム、ハフニウム合金、ハフニウム合金酸化物又は酸化ハフニウムからなる基体の表面を、炭素、酸素を含む化学種が当該表面に供給される雰囲気下で加熱処理することにより炭素ドープ酸化ハフニウム層又は炭素ドープハフニウム合金酸化物層からなる多機能層を有する基体とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

少なくとも表面層がハフニウム、ハフニウム合金、ハフニウム合金酸化物又は酸化ハフニウムからなる基体の表面を、 炭素、酸素を含む化学種が当該表面に供給される雰囲気下で加熱処理することにより炭素ドープ酸化ハフニウム層又は炭素ドープハフニウム合金酸化物層からなる多機能層を有する基体とすることを特徴とする多機能層を有する基体の製造方法。

IPC (2件)：

C23C 8/20 ,  C23C 8/10

FI (2件)：

C23C8/20 ,  C23C8/10

Fターム (3件)：

4K028AA01 ,  4K028AB02 ,  4K028AC08

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ガス化炉バーナ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-224384   出願人：トーカロ株式会社, 宇部興産株式会社, 宇部アンモニア工業有限会社
• 皮膜被覆部材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-111549   出願人：株式会社神戸製鋼所, トーカロ株式会社
• 溶射用ジルコニア粉末
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-149007   出願人：東ソー株式会社
• 半導体装置用部材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-173934   出願人：トーカロ株式会社

審査官引用 (2件)

• 溶射用ジルコニア粉末
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-149007   出願人：東ソー株式会社
• 半導体装置用部材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-173934   出願人：トーカロ株式会社