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J-GLOBAL ID：201102246491001452   整理番号：11A0098822

自己組織化微細構造を用いた超撥水-超親水パターン化表面の作製

著者 (9件)： 平井悠司 (東北大 多元物質科研) ,  藪浩 (東北大 多元物質科研) ,  松尾保孝 (北大 電子科研) ,  松尾保孝 (JST-CREST) ,  居城邦治 (北大 電子科研) ,  居城邦治 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 多元物質科研) ,  下村政嗣 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 WPI原子分子材料機構)
資料名： 表面科学学術講演会講演要旨集  (表面科学学術講演会要旨集)
巻： 30th  ページ： 418  発行年： 2010年11月04日 
JST資料番号： L1366A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 高分子溶液 ,  塗布 ,  *自己組織化 ,  微細構造 ,  *ハニカム構造 ,  *多孔質体 ,  *高分子膜 ,  ポリスチレン ,  両親媒性高分子 ,  ポリアクリルアミド ,  共重合体 ,  紫外線照射 ,  オゾン処理 ,  ウエハ【IC】 ,  フォトマスク ,  親水性 ,  RIE【エッチング】 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： *Si基板 ,  ピラー構造 ,  *超親水性 ,  *超撥水性

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 自己組織化 ,  微細構造 ,  撥水 ,  親水 ,  パターン化 ,  作製