PLD法により作製したHfO<sub>2</sub>/Si界面構造の酸素分圧依存性

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J-GLOBAL ID：201202110503679970 整理番号：12A1462429

PLD法により作製したHfO₂/Si界面構造の酸素分圧依存性

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資料名：
巻： 62nd 号： 2 ページ： 636 発行年： 2001年09月11日
JST資料番号： Y0055A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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