文献
J-GLOBAL ID：201202125840556101
整理番号：12A1425784
キャップ層熱処理法によるSi基板上SiGe層の歪緩和と表面平坦化
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著者 (5件)：
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資料名：
巻：
48th
号：
1
ページ：
455
発行年：
2001年03月28日
JST資料番号：
Y0054A
資料種別：
会議録 (C)
発行国：
日本 (JPN)
言語：
日本語 (JA)
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