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J-GLOBAL ID：201302219074246245   整理番号：13A0627735

ドレストフォトンを用いた新産業応用の開拓

Recent Progress of a Dressed Photon Technology

著者 (2件)： 八井崇 (東大 大学院工学系研究科) ,  大津元一 (東大 大学院工学系研究科)
資料名： レーザー研究  (レーザー学会誌)
巻： 41  号： 3  ページ： 166-170  発行年： 2013年03月15日 
JST資料番号： X0335A  ISSN： 0387-0200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ドレストフォトンはナノ構造にのみ局在する。このフォトンの特長を利用することで,ナノフォトニックデバイスのエネルギー利用効率を大幅に向上できる。ナノ構造としてZnOのナノロッドの利用が検討されている。このナノロッドでのドレストフォトンの利用について解説した。ZnOのナノロッドのナノフォトニックデバイスの性能やドレスフォトンのナノポリッシングの技術を示した。この系は,結晶性や寸法の制御性に非常に優れていて,ナノフォトニック機能デバイスに限らず高機能ナノフォトニックデバイスの理想系であることを指摘した。

シソーラス用語： オプトエレクトロニクス ,  固体素子 ,  機能素子 ,  *ナノロッド ,  可制御性 ,  *酸化亜鉛 ,  結晶度 ,  *統計光学 ,  実用化 ,  *光学素子 ,  研磨
準シソーラス用語： *ドレス状態 ,  フォトニックデバイス ,  光子統計 ,  産業応用 ,  量子構造

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  量子光学一般  (BD04010X)

引用文献 (17件)：

• SATO, A. J. Luminesc. 2009, 129, 1718
• OHTSU, M. IEEE J. Select. Top. Quantum. Electron. 2008, 14, 1404
• KAWAZOE, T. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 2957
• KAWAZOE, T. IEEE J. Select. Top. Quantum. Electron. 2009, 15, 1380
• SUN, H. D. J. Appl. Phys. 2002, 91, 1993

タイトルに関連する用語 (2件)： 産業応用 ,  開拓