特許
J-GLOBAL ID:201403077825799395

表面増強分光用基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 三好 秀和 ,  高橋 俊一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-095191
公開番号(公開出願番号):特開2014-215267
出願日: 2013年04月30日
公開日(公表日): 2014年11月17日
要約:
【課題】増強率の性能及び均一性に優れとともに、簡単な工程により作製することができ、貴金属を無駄にすることなくコストを抑制することができる表面増強分光用基板の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に卑金属のナノ構造体を形成する工程と、前記卑金属のナノ構造体に硝酸銀溶液を加える工程とを備えており、これらの工程により、基板上に銀ナノ構造体を作製する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板上に卑金属のナノ構造体を形成する工程と、前記卑金属のナノ構造体に硝酸銀溶液を加える工程とを備えたことを特徴とする表面増強分光用基板の製造方法。
IPC (4件):
G01N 21/65 ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00 ,  G01N 21/41
FI (4件):
G01N21/65 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G01N21/41 102
Fターム (15件):
2G043EA01 ,  2G043EA03 ,  2G043EA15 ,  2G043GA07 ,  2G043GB02 ,  2G043GB05 ,  2G043GB16 ,  2G043GB28 ,  2G043KA01 ,  2G043KA02 ,  2G059EE03 ,  2G059EE07 ,  2G059EE12 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献:
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