特許
J-GLOBAL ID：201103048330088423
分析用基板及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
三好 秀和
, 高橋 俊一
, 鈴木 壯兵衞
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-074787
公開番号（公開出願番号）：特開2011-208993
出願日： 2010年03月29日
公開日（公表日）： 2011年10月20日
要約：
【課題】手間やコストをかけずに、微量のサンプル、もしくは二次元情報を含む組織切片等の同一サンプルを、複数の分析方法で高感度に分析することができる分析用基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】光学的に平坦な基板1の上に、金属付着微粒子10が、一様に形成されている。金属付着微粒子10は、微粒子2と微粒子2に付着した金属層3とで構成されている。基板1上に微粒子2が固相化されており、微粒子2の表面の一部が金属層3で被覆されている。基板1上の領域によって、金属層3の組成、厚さ、微粒子2の粒径が異なるように構成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
金属が付着した固相化微粒子が基板上に形成された表面増強効果を有する分析用基板であって、前記固相化微粒子が形成された領域は、光学的分析方法の種類に対応して前記金属の種類もしくは金属の付着量を変えた領域、又は前記金属の種類及び金属の付着量を変えた領域に分割されていることを特徴とする分析用基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
2G043AA01
, 2G043EA01
, 2G043EA03
, 2G043KA02
, 2G043KA05
