特許
J-GLOBAL ID：201603020106113116

赤外線透過膜、赤外線透過膜の製造方法、赤外線用光学部品および赤外線装置

発明者：
明渡 純

明渡 純 について

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津田 弘樹

津田 弘樹 について

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大橋 啓之

大橋 啓之 について

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関野 省治

関野 省治 について

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中村 新

中村 新 について


出願人/特許権者：
国立研究開発法人産業技術総合研究所

国立研究開発法人産業技術総合研究所 について


代理人 (3件)： 池田 憲保 ,  福田 修一 ,  佐々木 敬
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-516285
特許番号：特許第6016037号
出願日： 2012年05月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 赤外線光学用の基板に設けられた赤外線透過膜であり、 前記赤外線透過膜は、 前記基板表面に形成されたバッファ層と、 前記バッファ層の表面に形成された耐環境性向上層と、 前記バッファ層と前記耐環境性向上層との間に設けられたアンカー層と を有し、 前記アンカー層の厚みは、0.05μm〜0.5μmであり、 前記基板と前記バッファ層と前記耐環境性向上層との各々のビッカース硬度は、基板<バッファ層<耐環境性向上層であり、 前記バッファ層のビッカース硬度は、前記基板のビッカース硬度の4倍以上であり、 前記耐環境性向上層のビッカース硬度は、100〜1000kgf/mm2であることを特徴とする赤外線透過膜。
IPC (2件)：
G02B 1/14 ( 201 5.01) ,  G03B 11/00 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G02B 1/14 ,  G03B 11/00
引用特許：
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (21件)
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