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J-GLOBAL ID：202102255128532859   整理番号：21A1428300

ケルビンプローブフォース顕微鏡を用いたフタロシアニン誘導体塗布薄膜の界面物性評価

Kelvin Probe Study on Interface Properties of Solution-Processed Phthalocyanine Derivative Thin Film

著者 (6件)： 正能拓馬 (大阪大 大学院) ,  石裏遼 (大阪大 大学院) ,  有田誠 (九大 大学院) ,  須藤孝一 (大阪大 産科研) ,  藤井彰彦 (大阪大 大学院) ,  尾崎雅則 (大阪大 大学院)
資料名： 電気学会全国大会講演論文集(CD-ROM)  (Annual Meeting Record, I.E.E. Japan (CD-ROM))
巻： 2021  ページ： ROMBUNNO.2-071  発行年： 2021年03月01日 
JST資料番号： S0653B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・フタロシアニン誘導体(C6PcH₂)は溶液プロセスによる分子配向薄膜の作成が可能で,電子デバイスへの応用に期待増。
・デバイスの動作機構理解には,キャリアの授受を行う電極材料とのヘテロ界面における電子物性の解明が重要だが,溶液プロセス作成の有機半導体薄膜の界面物性は未だ検討不十分。
・本研究では,安定性に優れたn-Si及びHOPG基板上に溶液プロセスを用いて作成したC6PcH₂薄膜について,ケルビンプローブフォース顕微鏡(KFM)観察を行い,基板界面物性について評価。

シソーラス用語： *顕微鏡観察 ,  Kelvin法 ,  力顕微鏡 ,  架橋化合物 ,  大環状化合物 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  溶液成長 ,  薄膜成長 ,  *分子配向 ,  *有機半導体 ,  *高分子薄膜 ,  電極材料 ,  界面 ,  ヘテロ接合 ,  物理的性質 ,  高配向性熱分解グラファイト ,  膜厚 ,  表面電位 ,  Fermi準位 ,  依存性 ,  半導体薄膜
準シソーラス用語： HOPG ,  *Kelvinプローブ力顕微鏡法 ,  *フタロシアニン誘導体 ,  ヘテロ界面 ,  界面物性 ,  膜厚依存性

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

引用文献 (2件)：

• M. Ohmori et al., Jpn. J. Appl. Phys., 56, 081601 (2017).
• R. Ishiura et al., Org. Electron., 78, 105599 (2020).

タイトルに関連する用語 (5件)： ケルビンプローブフォース顕微鏡 ,  フタロシアニン誘導体 ,  薄膜 ,  界面物性 ,  評価