研究者
J-GLOBAL ID：200901099825156660   更新日: 2024年01月30日

須藤 孝一

スドウ コウイチ | Sudoh Koichi
所属機関・部署：
大阪大学 産業科学研究所

大阪大学 産業科学研究所 について


職名： 准教授
研究分野 (1件)： 薄膜、表面界面物性
研究キーワード (6件)： ナノ構造 ,  結晶成長 ,  表面・界面 ,  thin film ,  crystal growth ,  surfac and interface
競争的資金等の研究課題 (9件)：
  • 2010 - 2013 表面拡散による形態変化を利用したシリコン表面における三次元微細構造形成
  • 2007 - 原子間力顕微鏡を用いたタンパク質結晶成長のメカニズムに関する研究
  • 2005 - 2006 原子ステップの運動による3次元結晶構造物のマクロスケール変形機構の解明
  • 2002 - 2003 金属酸化物表面におけるステップの熱力学・動力学的性質の解明
  • 2001 - 2002 周期構造基板を用いた強磁性ナノ粒子の規則配列化と高密度磁気記録媒体への応用
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論文 (62件)：
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MISC (48件)：
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講演・口頭発表等 (7件)：
  • Nano-scale morphology and hydrogenation of Si surfaces in the early phase of hydrogen annealing
    (PROCEEDINGS OF THE 17TH INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS/13TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SURFACE SCIENCE/INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOSCIENCE AND TECHNOLOGY 2008)
  • Time evolution of nano-scale morphology of silicon microstructure surfaces in the early phase of hydrogen annealing
    (GROUP IV SEMICONDUCTOR NANOSTRUCTURES-2006 2007)
  • Mechanism and control technology of trench corner rounding by hydrogen annealing for highly reliable trench MOSFET
    (PROCEEDINGS OF THE 18TH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON POWER SEMICONDUCTOR DEVICES & ICS 2006)
  • Step thermal relaxation on SrTiO3(001) surface
    (Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan 2005)
  • Electron-beam-induced decomposition of SiO2 overlay on si in STM nanolithography
    (NANOSCALE SPECTROSCOPY AND ITS APPLICATIONS TO SEMICONDUCTOR RESEARCH 2002)
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学歴 (4件)：
  • - 1999 大阪大学 工学研究科 応用物理学
  • - 1999 大阪大学
  • - 1993 大阪大学 工学部 応用物理
  • - 1993 大阪大学
学位 (2件)：
  • 工学修士 (大阪大学)
  • 博士(工学) (大阪大学)
経歴 (2件)：
  • 1999 - 日本学術振興会 特別研究員
  • 1999 - Research Fellow of the Japan Society for the Promotion of Science
所属学会 (3件)：
日本表面科学会 ,  日本物理学会 ,  応用物理学会
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