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J-GLOBAL ID:200901042204399509   Update date: Sep. 29, 2022

Ikezawa Shunjiro

イケザワ シュンジロウ | Ikezawa Shunjiro
Affiliation and department:
Research field  (3): Electronic devices and equipment ,  Basic plasma science ,  Applied plasma science
Research keywords  (4): 電子デバイス・機器工学 ,  プラズマ理工学 ,  Electron Device and Apparatus Engineering ,  Plasma Science and Technology
Research theme for competitive and other funds  (6):
  • EBEP装置によるプロセスプラズマ粒子の選択性とその場制御
  • 電子ビームのプラズマシース電位への影響
  • 表面波プラズマにおける新しい展開
  • Selective and In-Situ Controlled Processing Plasmas Particles by EBEP and Q-Mass and Optical Measurements
  • Influence of Electron Beam on Plasma Sheath Potential
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MISC (45):
Patents (1):
  • プラズマ発生用アンテナ・プラズマ処理装置, プラズマ処理方法, 及び被処理物の製造方法, 並びに半導体装置の製造方法 特願2000-279955
Books (2):
  • 高密度プラズマ応用プロセス技術(第1章 プラズマプロセスの基礎(P1-26)執筆)
    (株)リアライズ社 1993
  • 電波工学概説
    (株)森北出版 1989
Works (2):
  • 電子ビーム励起プラズマを用いた新機能材料創製プロセスの開発
    2000 -
  • Development of New Material Process Using Electron Beam-Excited Plasma
    2000 -
Professional career (1):
  • (BLANK)
Committee career (4):
  • 1996 - 1997 応用物理学会 プラズマエレクトロニクス幹事
  • 1992 - 1994 プラズマ・核融合学会 編集委員・第11回年会実行委員長
  • 1991 - 1992 電気学会 東海支部若手セミナー代表
  • 1989 - 1991 日本物理学会 分科の世話人
Association Membership(s) (5):
応用物理学会 ,  電子情報通信学会 ,  プラズマ・核融合学会 ,  日本物理学会 ,  電気学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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