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J-GLOBAL ID：200902212505107887   Reference number：09A0135895

半導体超微細パターン計測用測長SEMの開発と実用化

Material： 大河内賞受賞業績報告書  (Reports of Achievements in Industrialization Awarded the Okochi Memorial Prize)
Volume： 54th  Page： 112-129  Publication year： Apr. 01, 2008 
JST Material Number： L0225A  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *scanning electron microscope ,  semiconductor integrated circuit ,  LSI ,  MOSFET ,  pattern formation ,  traceability ,  measurement accuracy ,  product development ,  mass production ,  *semiconductor process ,  surface roughness ,  circuit design ,  standard
Semi thesaurus term： *critical dimension scanning electron microscope ,  critical dimension ,  line-edge roughness ,  design for manufacturability ,  ITRS

JST classification (3)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Electron and ion microscopes  (BD02050B) ,  Measurement,testing and reliability of solid-state devices  (NC03040G)

Reference (72)：

• Y. Nakayama, S. Okazaki and A. Sugimoto:“Proposal for a New Sub-micron Dimension Reference for Electron Beam Metrology System”, J. Vac. Sci. Technol. B6(6)(1988)1930.
• Y. Nakayama and S. Okazaki:“A Novel Probe Size Measurement Method for a Fine Electron Beam”, Jpn. J. Appl. Phys.30(1991)3294.
• Y. Nakayama and K. Toyoda:“New Submicron Dimension Reference for Electron Beam Metrology System”, SPIE 2196(1994)74.
• 大高 正, 笹田 勝弘, 橋本 信義, 森 弘義:「電子ビームを用いた半導体プロセス評価装置」, 日立評論, 1995年11月号
• 水野 文夫, 清水 実, 笹田 勝弘, 水野 剛: “Evaluation of Long-Term Stability of CD-SEMs Using a Calibration Standard”, B15(6), pp2177-2180, Journal of Vacuum Science and Technology Nov./Dec.1997

Terms in the title (5)： 微細パターン ,  計測 ,  測長SEM ,  開発 ,  実用化