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J-GLOBAL ID：201702218235410175   Reference number：17A0002436

Role of physisorption and chemisorption during hot-wire-assisted atomic layer deposition of nickel film examined by step coverage analysis

ステップカバレージ分析により検査されたニッケル膜のホットワイヤアシスト原子層蒸着中の物理吸着と化学吸着

Author (4)： YUAN G. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  SHIMIZU H. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MOMOSE T. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  SHIMOGAKI Y. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
Material： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proc Int Symp Dry Process)
Volume： 37th  Page： 205-206  Publication year： 2015 
JST Material Number： Y0378B  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： physical adsorption ,  chemisorption ,  chemical vapor deposition ,  welding wire ,  nickel ,  *metallic thin film ,  coverage factor

JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (7)： ステップカバレージ ,  分析 ,  検査 ,  ニッケル ,  原子層蒸着 ,  物理吸着 ,  化学吸着