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J-GLOBAL ID：201702220202022509   Reference number：17A0040437

欧州発表面処理関連技術の最前線レポート 6“FraunhoferFEPの反応性パルス スパッタリング最新技術トピックス”(下)

Author (2)： SUZUKI KOICHI (サーフテックトランスナショナル) ,  SUZUKI KOICHI (フラウンホーファーFEP)
Material： 工業材料  (Engineering Materials)
Volume： 65  Issue： 2  Page： 77-79  Publication year： Feb. 01, 2017 
JST Material Number： F0172A  ISSN： 0452-2834  CODEN： KZAIA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *reactive sputtering ,  magnetron sputtering ,  cathode ,  silicon dioxide ,  niobium oxide ,  film thickness ,  *multilayer film ,  target ,  stereoscopic television ,  backlight ,  *thin film optics ,  thin film
Semi thesaurus term： *optical multilayer ,  oxide thin film ,  film thickness distribution

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Optical devices in general  (BD06010L)

Terms in the title (7)： 欧州 ,  表面処理 ,  レポート ,  反応性 ,  パルス ,  スパッタリング ,  最新技術