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J-GLOBAL ID：201702243343517284   Reference number：17A0002343

Plasma-based atomic layer deposition and etching: progress and prospects

プラズマ主導原子層蒸着およびエッチング 進歩と今後の動向

Author (1)： KESSELS W. M. M. (Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
Material： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proc Int Symp Dry Process)
Volume： 37th  Page： 5-6  Publication year： 2015 
JST Material Number： Y0378B  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： technical progress ,  technological review ,  *chemical vapor deposition ,  *etching ,  plasma application

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (4)： プラズマ ,  原子層蒸着 ,  エッチング ,  動向