Art

J-GLOBAL ID：201702258491743986   Reference number：17A0178003

The Development of Numerical Simulation for Radio Frequency Plasma Source

高周波プラズマ数値シミュレーション技術開発

Author (2)： MIYASHITA MASARU (住友重機械工業) ,  OCHI SHUTA (住友重機械イオンテクノロジー)
Material： 住友重機械技報  (Sumitomo Heavy Industries Technical Review)
Issue： 192  Page： 23-28  Publication year： Jan. 20, 2017 
JST Material Number： F0316A  ISSN： 0387-1304  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *technology development ,  impurity ,  Poisson equation ,  *sputtering ,  distribution function ,  modeling ,  numerical solution ,  Galerkin method ,  discontinuity ,  finite element method
Semi thesaurus term： ion energy distribution ,  *contamination ,  simulation technology ,  *radio frequency plasma ,  dense ,  *Numerical Simulation ,  *film formation ,  voltage waveform

JST classification (2)： Plasma devices  (BJ02082I) ,  Computer simulation  (JE11000H)

Reference (19)：

• M. Miyashita, et.al., Frontier of Applied Plasma Technology, Plasma Simulation of Reactive Plasma Deposition Equipment using Three Dimensional Hybrid PIC/MCC method, 5(2012), p.79.
• 宮下大ほか,プラズマ数値シミュレーションの産業応用,応用数理(インダストリアルマテリアルズ),25(3),2015,p.120~124.
• M. Miyashita, et. al, The Development of Adaptive Mesh Refinement Technique for Hybrid Kinetic/Fluid Plasma Simulation, ICNSP2015, Extended abstract, 2015, p. p.1-5.
• Pascal Chabert, et. al., Physics of Radio-Frequency Plasmas, Cambridge University Press, 2011.
• M. Miyashita, et. al, 2D-Combined ICP/CCP numerical modeling for RF plasma source, GEC2015, Abstract, 2015, KW-3. 5.

Terms in the title (3)： 高周波プラズマ ,  数値シミュレーション ,  開発