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J-GLOBAL ID：201702227248481350   Reference number：17A0083508

Accurate characterization of mask defects by combination of phase retrieval and deterministic approach

位相検索と確定的アプローチの組み合わせによるマスク欠陥の精密な特性付け

Author (6)： PARK Min-Chul (Korea Univ. Sci. and Technol., Seoul, KOR) ,  PARK Min-Chul (Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR) ,  LEPORTIER Thibault (Korea Univ. Sci. and Technol., Seoul, KOR) ,  LEPORTIER Thibault (Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR) ,  KIM Wooshik (Sejong Univ., Seoul, KOR) ,  SONG Jindong (Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 9867  Page： 986712.1-986712.8  Publication year： 2016 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,  *fault detection ,  phase(topology) ,  photomask ,  mask ,  extreme ultraviolet ,  optical diffraction
Semi thesaurus term： *ultraviolet lithography ,  *fault detection ,  mask pattern ,  mask test ,  extreme-ultraviolet ,  diffraction pattern

JST classification (2)： Optical information processing  (BD03060T) ,  Pattern recognition  (JE07000S)

Terms in the title (6)： 位相 ,  検索 ,  確定 ,  組み合わせ ,  マスク欠陥 ,  特性付け