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J-GLOBAL ID：201702283654286018   Reference number：17A0289827

Development of a novel closed EUV pellicle for EUVL manufacturing

EUVL製造用の新しい密封式EUVペリクルの開発

Author (6)： ONO Yosuke (Mitsui Chemicals Inc., Chiba, JPN) ,  KOHMURA Kazuo (Mitsui Chemicals Inc., Chiba, JPN) ,  OKUBO Atsushi (Mitsui Chemicals Inc., Chiba, JPN) ,  TANEICHI Daiki (Mitsui Chemicals Inc., Chiba, JPN) ,  ISHIKAWA Hisako (Mitsui Chemicals Inc., Chiba, JPN) ,  BIYAJIMA Tsuneaki (Mitsui Chemicals Inc., Chiba, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 9985  Page： 99850B.1-99850B.7  Publication year： 2016 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photolithography ,  *cover ,  *protective film ,  pressure effect ,  silicon nitride ,  extreme ultraviolet ,  reticle ,  ventilation(air conditioning) ,  circuit pattern generation ,  semiconductor process
Semi thesaurus term： EUV mask ,  *EUV lithography ,  *pellicle

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： EUVL ,  密封 ,  EUV ,  ペリクル ,  開発