浅沼周太郎

アサヌマシュウタロウ | Shutaro Asanuma

所属機関・部署：
職名：主任研究員

研究分野 (1件)：薄膜、表面界面物性

研究キーワード (3件)：エレクトロニクス , 薄膜 , 酸化物

競争的資金等の研究課題 (4件)：

論文 (29件)：

Makoto Minohara, Yoshihiro Nemoto, Shutaro Asanuma, Izumi Hase, Yoshihiro Aiura. Destabilization of Sn²⁺ 5s² Lone-Pair States of SnO through Dimensional Crossover. The Journal of Physical Chemistry Letters. 2023. 14. 26. 5985-5992
Shutaro Asanuma, Kyoko Sumita, Yusuke Miyaguchi, Kazumasa Horita, Takeshi Masuda, Takehito Jimbo, Noriyuki Miyata. Exploring thermally stable metal-oxide/SiO₂ stack for metal oxide semiconductor memory and demonstration of pulse controlled linear response. Applied Physics Express. 2023. 16. 6. 061005-061005
Shutaro Asanuma. Synthesis of rhombohedral LaCuO3 thin films using the oxidation effect of NaClO solution. Dalton Transactions. 2022. 51. 6. 2531-2537
Makoto Minohara, Shutaro Asanuma, Hidehiro Asai, Yuka Dobashi, Akane Samizo, Yasuhisa Tezuka, Kenichi Ozawa, Kazuhiko Mase, Izumi Hase, Naoto Kikuchi, et al. Elaboration of near-valence band defect states leading deterioration of ambipolar operation in SnO thin-film transistors. Nano Select. 2021. 3. 6. 1012-1020
Shinji Migita, Hiroyuki Ota, Shutaro Asanuma, Yukinori Morita, Akira Toriumi. Accelerated ferroelectric phase transformation in HfO₂/ZrO₂ nanolaminates. Applied Physics Express. 2021. 14. 5. 051006-051006

MISC (5件)：

浅沼周太郎, 島久, 山田浩之, 井上公, 赤穗博司, 秋永広幸, 澤彰仁. HfO₂ゲート酸化膜を用いた強相関酸化物(Nd,Sm)NiO₃の電子相制御. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2013. 60th. ROMBUNNO.28A-F2-4
安住康平, 浅沼周太郎, 上江洲由晃, 勝藤拓郎. 22pWF-12 電場誘起抵抗変化を起こす遷移金属酸化物の顕微分光測定(Ti酸化物,電界効果,領域8,強相関係:高温超伝導,強相関f電子系など). 日本物理学会講演概要集. 2007. 62. 2. 602-602
濱口正樹, 青山賢士, 浅沼周太郎, 上江洲由晃, 勝藤拓郎. 20aYH-8 様々な遷移金属の酸化物薄膜におけるパルス電場誘起抵抗変化((Mn系2(マルチフェロイック・薄膜・デバイス),領域8(強相関系 : 高温超伝導,強相関f電子系など)). 日本物理学会講演概要集. 2005. 60. 2. 424-424
大塚真寛, 稲葉淳悟, 勝藤拓郎, 浅沼周太郎, 上江洲由晃. 13aRB-13 ペロブスカイト型 Sr_<1-x-y>La_<x+y>Ti_<1-y>Cr_yO_3 薄膜における磁気抵抗効果(V, Ti 系, 領域 8). 日本物理学会講演概要集. 2004. 59. 2. 451-451
浅沼周太郎, 加藤徳剛, 上江洲由晃, Menoret C, Kiat J-M, 山下洋八. 7pSH-10 リラクサー圧電体Pb(Zn1/3Nb2/3)03-9%PbTi03のX線回折法による電場の下での格子変形の精密測定(誘電体,領域10). 日本物理学会講演概要集. 2002. 57. 2. 810-810

特許 (4件)：

講演・口頭発表等 (32件)：

NaClO溶液の酸化作用を利用した酸化物薄膜の酸素欠陥低減に関する研究
(応用物理学会 2023)
NaClO溶液の酸化作用を利用した菱面体晶LaCuO3薄膜の作製
(応用物理学会 2021)
Thermally stable ALD dielectric stack for IDM MOS device
(International Conference on Solid State Devices and Materials 2021)
ALD法で形成したHfO2/TiO2/SiO2構造中の界面ダイポール変調
(応用物理学会 2019)
Interface dipole modulation in ALD HfO2/SiO2 multi-stack MOS structures
(International Conference on Solid State Devices and Materials 2019)

学位 (1件)：

受賞 (1件)：

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浅沼 周太郎