研究者
J-GLOBAL ID:200901006845219717   更新日: 2022年09月08日

岡田 繁

オカダ シゲル | Okada Shigeru
所属機関・部署:
職名: 名誉教授、特別研究員
その他の所属(所属・部署名・職名) (1件):
論文 (534件):
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書籍 (45件):
  • Syntheses of New Rare-earth Rhodium Borocarbides
    2014
  • Crystal growth of Nb-Si system compound obtained from the solution in Cu melt and some properties
    2013
  • Molten Metal Flux Growth and Properties of Chromium Disilicide
    2013
  • Crystal growth and physical properties of Y2ReB6-type structure
    2013
  • Crystal growth and properties of manganese-silicon system compounds by high-temperature tin solution method
    2012
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講演・口頭発表等 (8件):
  • Sintered nodies of indium oxide doped with tetravalent metal ions
    (5th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO-5) 2007)
  • 第一原理計算を用いたRERh3Bx (RE = Sc, Y, La, Ce) の機械的特性評価
    (第111回東北大学金属材料研究所講演会、東北大学金属材料研究所 2006)
  • 第一原理計算による希土類ロジウムホウ化物・炭化物の機械的特性
    (日本金属学会2006年春期大会 2006)
  • 第一原理計算によるRERh3Bx (RE=Sc, Y, La)の弾性特性に及ぼす空孔の効果(II)
    (第6回新プロ若手の会、2005年10月6日~10月7日 2005)
  • 第一原理計算によるRERh3Bx (RE=Sc, Y, La)の弾性特性に及ぼす空孔の効果(I)
    (日本金属学会2005年秋期大会 2005)
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学位 (1件):
  • 工学博士(東京工業大学) (神奈川大学)
経歴 (23件):
  • 2017/12 - 現在 日本ホウ素・ホウ化物研究会 副会長
  • 2017/06 - 現在 国士舘大学 名誉教授
  • 2017/03 - 現在 ISBB 2019: International Symposium of Boron, Borides and Related Materials プログラム委員
  • 2016/07 - 現在 国士舘大学理工学研究所 特別研究員
  • 2016/03 - 現在 国士舘大学定年退職
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委員歴 (21件):
  • 2017/02 - 現在 19th International Symposium on Boron, Borides and Related Materials (ISBB2019) プログラム委員
  • 2016/02 - 現在 日本ホウ素・ホウ化物研究会 副会長
  • 2010/05 - 現在 日本セラミックス協会関東支部 幹事
  • 2008/01 - 現在 日本セラミックス協会 正会員
  • 2007/05/01 - 現在 Organizing Committee of the 16th International Symposium on Boron, Borides and Related Materials プログラム委員と論文審査委員
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受賞 (5件):
  • 2014/06 - 日本セラミックス協会 日本セラミックス協会賞功労賞 金属ホウ化物およびケイ化物の結晶合成に対して金属フラックス法を用いた研究
  • 2012/12 - 日本フラックス成長研究会学術賞
  • 2012/12 - 国士舘大学学長賞
  • 2011/10 - 日本セラミックス協会永年継続会員賞
  • 2011/10 - 日本セラミックス協会支部振興功績賞
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