研究者
J-GLOBAL ID：200901042522811745   更新日: 2022年09月16日

堀尾 吉已

ホリオ ヨシミ | Horio Yoshimi
所属機関・部署：
大同大学 工学部 電気電子工学科

大同大学 工学部 電気電子工学科 について


職名： 教授
研究分野 (1件)： 薄膜、表面界面物性
研究キーワード (6件)： 薄膜 ,  表面 ,  反射高速電子回折 ,  thin film ,  surface ,  RHEED
競争的資金等の研究課題 (12件)：
  • CaF2絶絶薄膜の成長・形態の応用
  • 電界放射電子線源の開発
  • RHEED用エネルギーフィルターの開発
  • 反射高速電子回折による表面構造研究
  • エネルギーフィルター型RHEEDによる表面研究
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MISC (48件)：
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Works (4件)：
  • 半導体基板上の絶縁膜の成長様式・形態
    2001 -
  • Growth mode and morphology of insulating film on semiconductor substrate
    2001 -
  • 電子波動場による結晶表面リトグラフの基礎的研究
    1998 -
  • Basic study of crystal surface lithography by electron wave field
    1998 -
学位 (1件)：
  • 工学博士 (名古屋大学)
委員歴 (1件)：
  • 1992 - 日本表面科学会 編集委員
受賞 (1件)：
  • 1997 - 表面科学奨励賞
所属学会 (4件)：
日本結晶学会 ,  日本表面科学会 ,  応用物理学会 ,  日本物理学会
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