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J-GLOBAL ID：200902134780673549   整理番号：00A0056220

セルフアラインプロセスを用いたCu/CaF₂/Diamond MISFET

Utilizing Self-Aligned Gate Process Cu/CaF₂/Diamond MISFET.

著者 (9件)： 谷内寛直 (早稲田大 理工) ,  有馬拓也 (早稲田大 理工) ,  梅沢仁 (早稲田大 理工) ,  立木実 (早稲田大 理工) ,  津川和夫 (早稲田大 理工) ,  山中貞則 (科学技術振興事業団) ,  竹内大輔 (科学技術振興事業団) ,  大串秀世 (科学技術振興事業団) ,  川原田洋 (早稲田大 理工)
資料名： ダイヤモンドシンポジウム講演要旨集
巻： 13th  ページ： 128-129  発行年： 1999年11月25日 
JST資料番号： L1241A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ダイヤモンドを用いたデバイスの高周波デバイスへの応用の第一段...

シソーラス用語： *MISFET ,...

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分類 (1件)： トランジスタ  (NC03070N)

タイトルに関連する用語 (5件)： セルフアライン ,  プロセス ,  Cu ,  CaF2 ,  MISFET