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J-GLOBAL ID：200902141895340523   整理番号：94A0154143

歪Si1-xGex/Si量子井戸構造における相互拡散と成長環境の影響

Effect of growth environment on interdiffusion in strained Si1-xGex/Si quantum well structures.
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著者 (4件)：
砂村潤

砂村潤 について

(東大 先端科学技研セ)

東大 先端科学技研セ について

, 
深津晋

深津晋 について

(東大 先端科学技研セ)

東大 先端科学技研セ について

, 
宇佐美徳隆

宇佐美徳隆 について

(東大 先端科学技研セ)

東大 先端科学技研セ について

, 
白木靖寛

白木靖寛 について

(東大 先端科学技研セ)

東大 先端科学技研セ について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 54th  号： 1  ページ： 221  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
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タイトルに関連する用語
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歪

歪 について

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Si

Si について

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量子井戸

量子井戸 について

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相互拡散

相互拡散 について

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成長

成長 について

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環境

環境 について


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