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J-GLOBAL ID：200902252701586159   整理番号：08A0367456

1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長:赤外吸収スペクトルによる解析

著者 (7件)： 中村健 (産業技術総合研) ,  野中秀彦 (産業技術総合研) ,  亀田直人 (産業技術総合研) ,  亀田直人 (明電舎) ,  西口哲也 (産業技術総合研) ,  西口哲也 (明電舎) ,  一村信吾 (産業技術総合研)
資料名： Journal of the Vacuum Society of Japan  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 51  号： 3  ページ： 224-227  発行年： 2008年03月20日 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 1882-2398  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)はウエハ表面の疎水性化に広く用いられている。化学蒸着を紫外線照射下で行う際に懸念される副反応のうち,前駆体分子HMDSとO₃及び両者間の光化学反応の可能性を検討した。赤外吸収による振動分光法を用いて,紫外線及びO₃のみが共存する環境におけるHMDS光反応の初期過程としてSi-N-Si結合の解離と酸化初期反応によるC-O結合の形成を発見した。

シソーラス用語： 化学蒸着 ,  紫外線照射 ,  光化学反応 ,  *赤外吸収スペクトル ,  振動分光法 ,  解離 ,  酸化 ,  C-O結合 ,  *酸化膜 ,  ケイ素

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： HMDS

引用文献 (18件)：

• YONEZAWA, H. Colloids Surf. 1984, 9, 133
• NISHIGUCHI, T. Shinku. 2005, 48, 313
• 亀田直人. 第53回応用物理学関係連合講演会予稿集, 2006. 2006, 2, 842
• CHOU, M.-S. Chemosphere. 2007, 69, 697
• NISHIGUCHI, T. Rev. Sci. Instrum. 2002, 73, 1217

タイトルに関連する用語 (7件)： ヘキサメチルジシラザン ,  HMDS ,  オゾン ,  シリコン酸化膜 ,  成長 ,  赤外吸収スペクトル ,  解析