研究者

J-GLOBAL ID：200901093788381200 更新日: 2024年08月20日

野中秀彦

ノナカヒデヒコ | NONAKA Hidehiko

所属機関・部署：
職名：教授

研究分野 (1件)：基礎物理化学

競争的資金等の研究課題 (1件)：

高濃度オゾン酸化に関する研究

論文 (98件)：

Takano, Akio, Nonaka, Hidehiko, Homma, Yoshikazu, Tomita, Mitsuhiro, Murase, Atsushi, Hayashi, Syunichi, Barozzi, Mario, Kim, Kyung Joon, Sykes, David, Simons, David, et al. Final report on VAMAS round-robin study to evaluate a correction method for saturation effects in DSIMS. Surface and Interface Analysis. 2015. 47. 6. 681-700
Akio Takano, Hidehiko Nonaka, Yoshikazu Homma, Mitsuhiro Tomita, Atsushi Murase, Syunichi Hayashi, Mario Barozzi, Kyung Joon Kim, David Sykes, David Simons, et al. VAMAS round-robin study to evaluate a correction method for saturation effects in D-SIMS. Surface and Interface Analysis. 2014. 46. 1. 244-248
Taisuke Nakanaga, Hidekazu Nagai, Naoaki Saito, Yukio Fujiwara, Hidehiko Nonaka. Stabilities and dissociation reactions of the Irm(CO) n+ ions observed in TOF-SIMS of Ir4(CO) 12 thin layer. Chemical Physics Letters. 2013. 556. 44-48
Emission characteristics of a charged-droplet beam source using vacuum electrospray of an ionic liquid. Surface and Interface Analysis. 2013
Comparison of a new dead-time correction method and conventional models for SIMS analysis. Surface and Interface Analysis. 2012

もっと見る

MISC (52件)：

亀田直人, 西口哲也, 森川良樹, 花倉満, 牛山智晴, 野中秀彦, 一村信吾. 紫外光励起オゾンによるシリコン酸化膜および化学気相成長法 (CVD)-SiO₂ 膜の二段階酸化膜の界面特性評価. J Vac Soc Jpn. 2010. 53. 3. 230-233 (J-STAGE)
Yukio Fujiwara, Naoaki Saito, Hidehiko Nonaka, Taisuke Nakanaga, Shingo Ichimura. Cluster Ion Beam Source Using Vacuum Electrospray of Ionic Liquids for Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS). 7th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '09. 2009. 471-474
渡辺幸次, 近藤貢二, 藤原幸雄, 齋藤直昭, 野中秀彦, 一村信吾. キャピラリーによるイオンビームの収束. J Vac Soc Jpn. 2009. 52. 3. 117-120 (J-STAGE)
亀田直人, 西口哲也, 森川良樹, 花倉満, 野中秀彦, 一村信吾. 紫外光分解反応を用いた減圧・高濃度オゾンガス分解装置. J Vac Soc Jpn. 2009. 52. 4. 245-247 (J-STAGE)-247
野中秀彦, 一村信吾, 小杉亮治, 福田憲司, 荒井和雄. 高濃度オゾンによるSiC高速酸化と酸化膜の特性評価. J Vac Soc Jpn. 2008. 51. 3. 221-223

もっと見る

講演・口頭発表等 (5件)：

Trench Coverage Properties of Oxide Films Deposited at Low Temperature by Pure Ozone ALD
(AVS 23rd International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2023))
高純度オゾンを用いたALD によるAl2O3 膜段差被覆性
(第70回応用物理学会春季学術講演会)
高純度オゾンを用いたALD によるAl2O3 膜の膜応力
(第83回応用物理学会秋季学術講演会)
高純度オゾンを用いた低温ALD Al2O3膜の性質
(第81回応用物理学会秋季学術講演会 2020)
Room temperature ALD using high-purity ozone gas
(20th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2020) / 7th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2020) 2020)

学歴 (2件)：

1984 - 1986 東京大学理学系研究科化学専門課程(修士)
1980 - 1984 東京大学理学部化学

経歴 (1件)：

1986/04 - 2020/03 産業技術総合研究所分析計測研究部門(最終) 研究部門長(最終)

委員歴 (8件)：

2021/03 - 現在筑波会議委員会筑波会議企画委員会/委員
2020/11 - 現在筑波会議委員会筑波会議実行委員会/委員長
2015/01/01 - 現在 ISO Technical Committee 201 (Surface Chemical Analysis)/Chair
2015/01 - 現在国際標準化機構専門員会 201(表面化学分析)/議長
2014/04 - 現在日本真空学会(2018より日本表面真空学会となる) 表彰審査会審査委員会/委員

全件表示

所属学会 (3件)：

日本真空学会(2018より日本表面真空学会となる) , 応用物理学会 , 日本化学会

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る

TOP

BOTTOM