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J-GLOBAL ID：200902295129507316   整理番号：04A0835508

シリコン単結晶表面のはっ水性に関する分子軌道法を用いた研究

著者 (7件)： 井上賢太郎 (長岡技科大) ,  田中諭 (長岡技科大) ,  内田希 (長岡技科大) ,  植松敬三 (長岡技科大) ,  井上啓一 (セイコーエプソン) ,  篠原祐治 (セイコーエプソン) ,  上原正光 (セイコーエプソン)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集  (Abstracts. Fall Meeting of the Ceramic Society of Japan)
巻： 17th  ページ： 359  発行年： 2004年09月17日 
JST資料番号： L2240A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリコン単結晶 ,  はっ水性 ,  分子軌道法 ,  研究