特許
J-GLOBAL ID：200903013487146986

SWNT可飽和吸収光学材料の作製方法、パルスレーザー装置、全光型光スイッチ装置

発明者：
中沢 正隆

中沢 正隆 について

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戒能 俊邦

戒能 俊邦 について

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廣岡 俊彦

廣岡 俊彦 について

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小松 京嗣

小松 京嗣 について


出願人/特許権者：
国立大学法人東北大学

国立大学法人東北大学 について


代理人 (4件)： 重信 和男 ,  清水 英雄 ,  高木 祐一 ,  中野 佳直
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-283996
公開番号（公開出願番号）：特開2007-094065
出願日： 2005年09月29日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：
【課題】 単層カーボンナノチューブの可飽和吸収光学特性を安定に発現するための透明プラスチック材料の製造方法ならびにそれを利用したレーザーおよび光スイッチ装置を提供すること。【解決手段】 波長1.55 μm帯で透明なプラスチック材料に単層カーボンナノチューブを均一に分散させることにより、低損失かつ光耐損傷性に優れた可飽和吸収光学材料が実現できる。さらに本材料を導波路構造にし任意の厚みに高精度に光学研磨することにより、超短光パルスレーザーや超高速光スイッチなどの各種光デバイスへの幅広い応用が可能となる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
単層カーボンナノチューブ(SWNT)が有する光の可飽和吸収特性を安定に発現させるための光学材料作製方法において、溶剤としてクロロベンゼン(CLB)もしくはテトラヒドロフラン(THF)を用いることにより、該SWNTを透明性プラスチック材料に均一に分散させることを特徴とするSWNT可飽和吸収光学材料の作製方法。
IPC (1件)：
G02F 1/361
FI (1件)：
G02F1/361
Fターム (5件)：
2K002AB27 ,  2K002BA01 ,  2K002CA05 ,  2K002HA13 ,  2K002HA22
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)
引用文献：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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