文献

J-GLOBAL ID：200902150371920319   整理番号：99A0547644

CH₄/H₂-RIEエッチトミラーのラフネス測定と半導体レーザへの応用

Measurement of CH₄/H₂-RIE Etched Mirror Roughness and Its Application to Semiconductor Lasers.

著者 (6件)： MADHAN RAJ M (Tokyo Inst. Technol.) ,  TOYOSHIMA S (Tokyo Inst. Technol.) ,  MATSUTANI A (Tokyo Inst. Technol.) ,  OYAKE M (Tokyo Inst. Technol.) ,  SAKA Y (Tokyo Inst. Technol.) ,  ARAI S (Tokyo Inst. Technol.)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 46th  号： 3  ページ： 1381  発行年： 1999年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： H2 ,  RIE ,  半導体レーザ ,  応用