二周波数重畳(DFS)rf容量性結合プラズマエッチプロセス

KOJIMA A; HAYASHI H; SAKAI I; NISHIWAKI J; TAKASE A; OHMURA M; YASHIRO J; HIMORI S; NAGASEKI K

文献

J-GLOBAL ID：200902233776467240 整理番号：04A0097165

二周波数重畳(DFS)rf容量性結合プラズマエッチプロセス

Dual Frequency Superimposed (DFS) rf Capacitive Coupled Plasma Etch Process

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資料名：

Proceedings of International Symposium on Dry Process (Proceedings of International Symposium on Dry Process)

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巻： 3rd ページ： 13-17 発行年： 2003年11月13日
JST資料番号： Y0378B 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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