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J-GLOBAL ID:201102299412545325   整理番号:11A1811821

SrTiO3ホモエピタキシャル薄膜成長初期過程の原子スケール観察

Atomic-Scale Observation of Initial Growth Process of Homoepitaxial SrTiO3 Thin Films
著者 (5件):
資料名:
巻: 53  号:ページ: 353-358  発行年: 2011年10月31日 
JST資料番号: G0232A  ISSN: 0369-4585  CODEN: NKEGAF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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パルスレーザー蒸着(PLD)によりホモエピタキシャル成長させたSrTiO3薄膜の表面構造を低温走査トンネル顕微鏡法(STM)を用いて研究した。頻繁に用いられる基板調製プロセスで作製したSrTiO3単結晶基板の表面状態について論じ,次にこの表面上にステップフローおよび層ごと成長により成長させたSrTiO3薄膜の表面構造を比較した。層ごと成長により得た薄膜の表面では,ステップフロー成長とは対照的に,テラス上に多数うの1ユニットセル高さの島構造およびピット構造が存在した。SrTiO3基板表面が原子規模では無秩序であることを示し,その基板上に成長させたホモエピタキシャルSrTiO3薄膜の成長モードの違いによる表面構造を示した。さらに,酸化物薄膜成長条件下で安定な原子レベル秩序をもつSrTiO3表面準備法を示し,その上へのSrTiO3ホモエピタキシャル成長の初期過程を原子規模で明らかにした。
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  固体の表面構造一般 
引用文献 (17件):
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