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J-GLOBAL ID：201702235652710328   整理番号：17A0793058

インジウム亜鉛酸化物膜蒸着用ポリカーボネート基板のプラズマ前処理【Powered by NICT】

Plasma pretreatment of polycarbonate substrates for indium zinc oxide film deposition

著者 (6件)： Zhang Xuan (Beijing Institute of Aeronautical Materials, Beijing, 100095, China) ,  Lang Jianlin (Beijing Institute of Aeronautical Materials, Beijing, 100095, China) ,  Yan Yue (Beijing Institute of Aeronautical Materials, Beijing, 100095, China) ,  Zhang Xiaofeng (Beijing Institute of Aeronautical Materials, Beijing, 100095, China) ,  Zhong Yanli (Beijing Institute of Aeronautical Materials, Beijing, 100095, China) ,  Li Lei (Beijing Institute of Aeronautical Materials, Beijing, 100095, China)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 49  号： 5  ページ： 376-383  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直流マグネトロンスパッタリングで蒸着した非晶質透明酸化インジウム亜鉛(IZO)の形態学的,電気的,および接着特性に及ぼすポリカーボネート(PC)基板のプラズマ処理の影響を原子間力顕微鏡,接触角,Hall,とナノ引かき測定を分析することによって調べた。PC基板の表面はAr/O_2混合雰囲気中で様々な処理時間でプラズマ処理によって行った。原子間力顕微鏡画像は,基板の微細構造は堆積したIZO膜の表面形態にかなり影響し,IZOの最小表面粗さは5秒のプラズマ処理後に得られたことを示した。5秒のプラズマ処理によるPC上に堆積したIZO膜は空気中120°Cでのアニーリング後の改善された電気伝導率と熱安定性を示したが,プラズマ処理時間の延長による電気抵抗のキャリア濃度の増加と有意な減少が観察され,これは緩く充填された構造の焼なまし過程での高い酸素吸着に起因した。さらに,PC基板を有するIZO膜の接着特性は,PCと薄膜間の表面極性に有意差とプラズマエッチングによる増加した粗さのために30秒のプラズマ処理後に減少した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 原子間力顕微鏡 ,  キャリア密度 ,  *酸化亜鉛 ,  接触角 ,  接着 ,  *蒸着 ,  プラズマエッチング ,  電気伝導率 ,  プラズマ処理 ,  *プラズマ ,  加工時間 ,  焼なまし ,  熱安定性 ,  モルフォロジー
準シソーラス用語： 表面形態 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ポリカーボネート ,  プラズマエッチング ,  非晶質インジウム亜鉛酸化物膜 ,  接着 ,  電気的解析

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (7件)： インジウム ,  亜鉛 ,  酸化物膜 ,  蒸着 ,  ポリカーボネート ,  プラズマ ,  前処理