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J-GLOBAL ID：201002255137958059   整理番号：10A0858088

シリコン含有DLC膜上の自己組織化単分子膜形成および摩擦特性

Formation of Self-Assembled Monolayers on Si-DLC Films and Their Friction Properties

著者 (4件)： CHOI Junho (東大 大学院工学系研究科) ,  櫻井健一 (東大 大学院) ,  加藤孝久 (東大 大学院工学系研究科) ,  川口雅弘 (東京都産業技術研究セ)
資料名： トライボロジスト  (Journal of Japanese Society of Tribologists)
巻： 55  号： 8  ページ： 572-578  発行年： 2010年08月15日 
JST資料番号： F0390A  ISSN： 0915-1168  CODEN： TORAEO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,熱安定性に優れるシリコン添加DLC膜(Si-DLC膜)上で,有機シランSAM(自己組織化単分子膜)形成の様子を原子間力顕微鏡を用いて観察し,水平力顕微鏡による摩擦特性の評価,大気中での熱安定性の評価をした。これにより得た主な知見を次に示した。1)浸漬時間とともに島上のSAMの密度が増加し,最終的に直立した状態の単分子膜が得られたこと,またSAM形成後の表面粗さはSi-DLC基板と同程度になること,2)シリコン含有量の増加に伴いSAMの形成速度が速くなるとともに,Si-DLC膜とSAMの界面が安定化して摩擦特性が向上すること,3)Si-DLC膜上で高密度に充てんされたSAMは,大気中450°C程度まで安定して表面に存在すること,これらの結果からSi-DLC膜/SAMの複合膜については,熱NIL(ナノインプリントリソグラフィ)での離型膜として応用が期待できること。

シソーラス用語： *DLC膜 ,  *ケイ素 ,  有機ケイ素化合物 ,  *単分子層 ,  摩擦 ,  熱安定性 ,  リソグラフィー ,  シラン誘導体 ,  *離型剤 ,  原子間力顕微鏡 ,  含有量 ,  複合膜
準シソーラス用語： *有機シラン ,  *自己組織化単分子膜 ,  *摩擦特性 ,  *ナノインプリントリソグラフィー

分類 (3件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

引用文献 (11件)：

• 松井真二. ナノインプリント技術. 表面科学. 2004, 25, 10, 628
• JUNG, G. Y. Vapor-Phase Self-Assembled Monolayer for Improved Mold Release in Nanoimprint Lithography. Langmuir. 2005, 21, 4, 1158
• CHOI, J. Self-Assembled Monolayer formation on Magnetic Hard Disk Surface and Friction Measurements. Journal of Applied Physics. 2002, 91, 10, 75-74
• CHOI, J. Self-Assembled Monolayer on Diamond-Like Carbon Surface : Formation and Friction Measurements. Tribology International. 2003, 36, 4-6, 285
• ZHANG, H. Growth of Self-Assembled Monolayer on Tetrahedral Amorphous Carbon Film Coated Magnetic Head. Surface and Coatings Technology. 2008, 202, 15, 3451

タイトルに関連する用語 (4件)： シリコン ,  DLC膜 ,  自己組織化単分子膜 ,  摩擦特性