特許
J-GLOBAL ID:201003014302478454
表面改質されたポリマー構造体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (5件):
萼 経夫
, 宮崎 嘉夫
, 加藤 勉
, 小山 京子
, 伴 知篤
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2008057874
公開番号(公開出願番号):WO2008-133283
出願日: 2008年04月23日
公開日(公表日): 2008年11月06日
要約:
本発明は、線状ポリマーからなるマトリクスポリマーと、分子末端に親水性官能基を有する高分岐ポリマーとを混合し、一体と成して、該マトリクスポリマーと該高分岐ポリマーとを含有する構造体を形成する工程と、次に得られた該構造体を、該マトリクスポリマーのTgより30°C低い温度ないし該マトリクスポリマーの分解温度の範囲内の温度にて、水及び/又は親水性溶剤の中に浸漬処理するか、或いは、水及び/又は親水性溶剤の蒸気雰囲気に暴露処理する工程を含む、ポリマー構造体の最表面において高分岐ポリマー分子末端の親水性官能基が高密度に分布することを特徴とするポリマー構造体の製造方法に関する。更に、該親水性官能基の少なくとも一部に対してビニル系高分子鎖がグラフトされているポリマー構造体の製造方法にも関する。
請求項(抜粋):
線状ポリマーからなるマトリクスポリマーに、分子末端に親水性官能基を有する高分岐ポリマーが含有されているポリマー構造体の製造方法において、
該マトリクスポリマーと該高分岐ポリマーとを混合し、一体と成して、該マトリクスポリマーと該高分岐ポリマーとを含有する構造体を形成する工程と、
次に得られた該マトリクスポリマーと該高分岐ポリマーとを含有する構造体を、該マトリクスポリマーのガラス転移温度より30°C低い温度ないし該マトリクスポリマーの分解温度の範囲内の温度にて、水及び/又は親水性溶剤の中に浸漬処理するか或いは、水及び/又は親水性溶剤の蒸気雰囲気に暴露処理する工程を含む、
ポリマー構造体の最表面において高分岐ポリマーの分子末端の親水性官能基が高密度に分布することを特徴とするポリマー構造体の製造方法。
IPC (3件):
C08J 7/00
, C08J 7/16
, C08F 291/00
FI (3件):
C08J7/00 301
, C08J7/16
, C08F291/00
Fターム (31件):
4F073AA01
, 4F073BA18
, 4F073BA19
, 4F073BA34
, 4F073BB01
, 4F073CA45
, 4F073CA65
, 4F073CA72
, 4F073EA11
, 4F073EA21
, 4F073FA03
, 4F073HA05
, 4F073HA09
, 4F073HA11
, 4J026AA17
, 4J026AA45
, 4J026AA49
, 4J026AA68
, 4J026AA76
, 4J026AC15
, 4J026AC18
, 4J026AC22
, 4J026AC26
, 4J026AC35
, 4J026BA32
, 4J026CA08
, 4J026DB36
, 4J026FA05
, 4J026FA08
, 4J026GA01
, 4J026GA02
引用特許:
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