超電導マグネトロンスパッタ装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋祥泰
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-249146
公開番号（公開出願番号）：特開平10-072667
特許番号：特許第3695010号
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】マグネトロンスパッタガンの上にターゲットを配置すると共に該ターゲットの上に薄膜を形成するための基板を対向配置し,これらを収容した真空チャンバー内をスパッタガス雰囲気にした状態で,上記基板の表面にターゲット物質を被着形成するスパッタ装置において, 上記マグネトロンスパッタガンは,内部磁路を形成するための磁極鉄芯材料よりなるヨークと,該ヨークの一部に配設した超電導バルクと,該超電導バルクを着磁させるための着磁コイルと,上記超電導バルクを超電導臨界温度以下に冷却する冷却手段とよりなり, 上記着磁コイルにパルス電流を加えて上記超電導バルクに磁場を捕捉させ,この磁場をターゲット表面に導いてスパッタリングを行なうよう構成し, また,上記冷却手段は,冷凍機の冷凍部と,該冷凍部を配設した真空断熱容器であり,該真空断熱容器内に,上記超電導バルク,ヨーク及び着磁コイルが収納されており, かつ上記冷凍機は,絶縁されていることを特徴とする超電導マグネトロンスパッタ装置。

IPC (1件)：

C23C 14/35

FI (1件)：

C23C 14/35 Z

引用特許：

出願人引用 (11件)

特開昭58-189372
超電導体の着磁装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-355299 出願人：株式会社イムラ材料開発研究所
特開昭64-052067

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審査官引用 (7件)

特開昭58-189372
超電導体の着磁装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-355299 出願人：株式会社イムラ材料開発研究所
特開昭64-052067

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