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J-GLOBAL ID：201202223433092232   整理番号：12A0394281

次世代リチウムイオン電池用Si系負極の作製および評価装置

著者 (2件)： 薄井洋行 (鳥取大 大学院工学研究科) ,  坂口裕樹 (鳥取大 大学院工学研究科)
資料名： 化学装置  (Plant and Process)
巻： 54  号： 3  ページ： 32-33  発行年： 2012年03月28日 
JST資料番号： G0109A  ISSN： 0368-4849  CODEN： KASOB7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電気自動車や定置用の電源として,既存のものよりも格段に高いエネルギー密度と出力密度を持つリチウムイオン電池の開発が望まれている。しかしながら,膜厚が数百nm以下のSi薄膜では良好な充放電サイクル性能が得られる場合があるものの,それ以上になるとサイクル性能が劣化してしまうケースがほとんどである。これは,従来の製膜法で得られる膜は均質かつ緻密なものであり,充放電時のリチウムの吸蔵放出に伴うSiの激しい体積変化に対応できずに膜自体が微粉化し崩壊してしまうためである。これに加え,Siの低い電子伝導率と遅いリチウム拡散はこれの負極材料への応用を非常に困難なものにしている。Siのように大きな膨張収縮をともなう活物質の膜化には従来の製膜法は不向きであると考え,ガスデポジション(GD)法を用いたSi系厚膜負極の作製を行ってきた。本稿では,開発背景,原理と構造,今後の展開などについて解説した。

シソーラス用語： *リチウムイオン電池 ,  *ケイ素 ,  *カソード ,  *製造 ,  エネルギー密度 ,  出力 ,  膜厚 ,  充放電サイクル ,  変化 ,  粉化 ,  電気伝導 ,  膨張 ,  収縮 ,  電極材料 ,  物質 ,  製膜 ,  物理蒸着 ,  厚膜
準シソーラス用語： ガスデポジション法 ,  活物質 ,  *作製 ,  次世代 ,  出力密度 ,  体積変化 ,  電子伝導 ,  微粉化 ,  *負極

分類 (1件)： 二次電池  (YB04030K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 次世代 ,  リチウムイオン電池 ,  Si ,  負極 ,  作製 ,  評価装置