特許
J-GLOBAL ID：201603008447078246
基板検査装置、基板検査方法および基板検査プログラム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
岩上 渉
, 後藤 貴亨
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-235109
公開番号（公開出願番号）：特開2013-092460
特許番号：特許第5851200号
出願日： 2011年10月26日
公開日（公表日）： 2013年05月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 検査対象と測定点とを含む平面状の基板に対する放射線の照射方向が可変となるように、イメージセンサと放射線発生器の焦点位置との少なくとも一方を移動させる移動制御手段と、
前記基板が保持される基準の位置である保持基準位置を取得する手段と、
前記基板に対して第1照射方向に放射線を照射した状態において前記イメージセンサにて前記測定点の透過像が検出された際における、前記焦点位置である第1焦点位置と、前記保持基準位置である第1検出位置と、前記測定点の透過像の前記イメージセンサ上の投影位置である第1投影位置と、を取得し、
前記基板に対して前記第1照射方向と異なる第2照射方向に放射線を照射した状態において前記イメージセンサにて前記測定点の透過像が検出された際における、前記焦点位置である第2焦点位置と、前記保持基準位置である第2検出位置と、前記測定点の透過像の前記イメージセンサ上の投影位置である第2投影位置と、を取得する手段と、
前記第1検出位置に対する前記第1焦点位置の相対位置である第1相対焦点位置と、前記第2検出位置に対する前記第2焦点位置の相対位置である第2相対焦点位置と、を取得する相対焦点位置取得手段と、
前記第1検出位置に対する前記第1投影位置の相対位置である第1相対投影位置と、前記第2検出位置に対する前記第2投影位置の相対位置である第2相対投影位置と、を取得する相対投影位置取得手段と、
前記第1相対焦点位置と前記第1相対投影位置とを結ぶ直線と、前記第2相対焦点位置と前記第2相対投影位置とを結ぶ直線との交点の位置を前記測定点の位置として特定する測定点位置特定手段と、
前記測定点の位置に基づいて特定した前記検査対象の位置について検査を実行する検査手段と、
を備える基板検査装置。
IPC (2件)：
G01N 23/04 ( 200 6.01)
, G01N 23/18 ( 200 6.01)
