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J-GLOBAL ID：201702218152039323   整理番号：17A0565338

クラックを有するHTS薄膜中の遮蔽電流解析の高速アルゴリズム

High-Speed Algorithm for Shielding Current Analysis in HTS Film with Cracks

著者 (4件)： KAMITANI Atsushi (Yamagata University) ,  TAKAYAMA Teruou (Yamagata University) ,  SAITOH Ayumu (University of Hyogo) ,  NAKAMURA Hiroaki (National Institute of Fusion Science)
資料名： Plasma and Fusion Research (Web)  (Plasma and Fusion Research (Web))
巻： 10  ページ： 3405023(J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： U0045A  ISSN： 1880-6821  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： クラックを有する高温超伝導体(HTS)薄膜中の時間変化遮蔽電流密度を計算する,高速で安定な方法を提示する。遮蔽電流密度の初期-境界値問題をT法で定式化すると,クラック表面のFaradayの法則の積分形も境界条件として課される。初期-境界値問題の空間離散化の結果として,半陽形式の微分代数方程式(DAE)を得る。DAEは標準的な常微分方程式(ODE)ソルバで解けるが,数値的に解くには長いCPU時間が必要となる。CPU時間を短縮するために,次の高速アルゴリズムを提示する。すなわちブロックLU分解をODEソルバの関数評価に組み入れる。提案するアルゴリズムに基づいて数値コードを開発し,掃引永久磁石法によりクラックの検出可能性を数値解析した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： LU分解 ,  *数値解析 ,  計算機シミュレーション ,  *高温超伝導体 ,  アルゴリズム ,  *電流 ,  *表面亀裂 ,  臨界電流密度 ,  積分微分方程式 ,  *超伝導薄膜
準シソーラス用語： *遮蔽電流

著者キーワード (5件)： block LU decomposition ,  critical current density ,  high-temperature superconductor ,  integrodifferential equation ,  surface crack

分類 (1件)： 超伝導材料  (BM04041W)

引用文献 (8件)：

• [1] Y. Yoshida, M. Uesaka and K. Miya, IEEE. Trans. Magn. 30, 3503 (1994).
• [2] A. Kamitani, T. Takayama and S. Ikuno, IEEE Trans. Magn. 47, 1138 (2011).
• [3] A. Kamitani, T. Takayama and S. Ikuno, IEEE Trans. Magn. 49, 1877 (2013).
• [4] A. Kamitani, T. Takayama, S. Ikuno and H. Nakamura, Plasma Fusion Res. 9, 3405085 (2014).
• [5] W.H. Press, S.A. Teukolsky, W.T. Vetterling and B.P. Flannery, Numerical Recipes in Fortran 77 (Cambridge Univ. Press, New York, 1992) p.708.

タイトルに関連する用語 (6件)： クラック ,  HTS ,  薄膜 ,  遮蔽電流 ,  解析 ,  高速アルゴリズム