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J-GLOBAL ID：201702218746532200   整理番号：17A0551136

ZnOナノワイヤ上への(Hf,Zr)O₂薄膜の作製

著者 (5件)： 竹内洋平 (兵庫県大 工) ,  仲村菜美 (兵庫県大 工) ,  藤沢浩訓 (兵庫県大 工) ,  中嶋誠二 (兵庫県大 工) ,  清水勝 (兵庫県大 工)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.17p-304-5  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 酸化亜鉛 ,  ナノワイヤ ,  酸化ジルコニウム ,  酸化ハフニウム ,  *薄膜成長 ,  電子顕微鏡観察 ,  X線回折 ,  強誘電体 ,  *コンデンサ ,  *FET【トランジスタ】 ,  *強誘電体FET
準シソーラス用語： 二酸化ジルコニウム ,  二酸化ハフニウム ,  *強誘電体コンデンサ

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： ZnOナノワイヤ ,  HF ,  Zr ,  O2 ,  薄膜 ,  作製