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J-GLOBAL ID：201702227804288882   整理番号：17A0546904

SiGeフォノン結晶ナノ構造中の熱フォノン輸送

Thermal Phonon Transport in SiGe Phononic Crystal Nanostructures

著者 (3件)： NOMURA Masahiro (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  NOMURA Masahiro (JST-PRESTO, Saitama, JPN) ,  SAWANO Kentarou (Tokyo City Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Proceedings. International Conference on Flow Dynamics (CD-ROM)  (Proceedings. International Conference on Flow Dynamics (CD-ROM))
巻： 13th  ページ： ROMBUNNO.OS10-6  発行年： 2016年 
JST資料番号： L8189B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ゲルマニウム ,  *ケイ素 ,  *フォノン ,  *熱伝導 ,  *ナノ構造 ,  ナノ結晶 ,  非晶質 ,  立方晶系 ,  六方晶系 ,  平均自由行程 ,  *半導体材料 ,  *輸送現象
準シソーラス用語： *SiGe ,  ナノパターン形成 ,  *フォノン輸送

分類 (3件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  比熱・熱伝導一般  (BL05021E) ,  結晶中のフォノン・格子振動  (BL03020Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： SiGe ,  フォノン ,  結晶 ,  ナノ構造 ,  フォノン輸送