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J-GLOBAL ID：201702235462703428   整理番号：17A0848140

液滴室温リバーサルマイクロコンタクトプリントによるDLCドットアレイの作製

著者 (8件)： 吉田圭汰 (舞鶴工高専) ,  清原修二 (舞鶴工高専) ,  石川一平 (舞鶴工高専) ,  筒井舜平 (舞鶴工高専) ,  針谷達 (豊橋技科大 電気・電子情報工学系) ,  谷本壮 (豊橋技科大 電気・電子情報工学系) ,  滝川浩史 (豊橋技科大 電気・電子情報工学系) ,  倉島優一 (産業技術総合研 集積マイクロシステム研究セ)
資料名： 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集  (精密工学会関西地方学術講演会講演論文集)
巻： 2017  ページ： 66-67  発行年： 2017年06月29日 
JST資料番号： L6024A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： PDMSモールドを用いた液滴室温リバーサルマイクロコンタクトプリントリソグラフィ(DRTRM-CL)によるDLCエミッタアレイの作製プロセスを提案した。高精度な転写パターンが得られるコンタクトプリント条件について検討した結果,コンタクトプリント時間t=15min,コンタクトプリント圧力P=0.5MPaが最適であることがわかった。この開発したDRTRM-CL,での残膜層は,室温リバーサルマイクロコンタクトプリントリソグラフィ(RTRM-CL)法に比べて1/18の厚さである30nmまで薄くできたため,残膜除去プロセスが省けることがわかった。この最適条件でDRTRM-CLにより先端半径200nm,直径5μm,高さ500nmの高精度な先鋭化したDLCドットアレイを作製できた。(著者抄録)

シソーラス用語： *ダイヤモンド状炭素 ,  *アレイ ,  エミッタ【半導体】 ,  *印刷 ,  パターン形成 ,  リソグラフィー ,  自己組織化 ,  微細加工 ,  液滴 ,  室温 ,  ポリジメチルシロキサン ,  金型 ,  最適条件 ,  転写
準シソーラス用語： *ドットアレイ ,  エミッタアレイ ,  *マイクロコンタクトプリント ,  *リバーサルマイクロコンタクトプリント

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 液滴 ,  室温 ,  DLC ,  ドットアレイ ,  作製