文献

J-GLOBAL ID：201702256346024994   整理番号：17A0165370

SIN薄膜薄膜の製造技術実験研究【JST・京大機械翻訳】

Experimental research on fabrication of silicon nitride film nanopore device

著者 (9件)： Yuan Zhishan (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, Southeast University) ,  Lin Kabin (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, Southeast University) ,  Yang Haojie (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, Southeast University) ,  Ji Anping (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, Southeast University) ,  Sha Jingjie (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, Southeast University) ,  Xie Xiao (Key Laboratory of MEMS of Ministry of Education, Southeast University) ,  Ni Zhonghua (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, Southeast University) ,  Yi Hong (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, Southeast University) ,  Chen Yunfei (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, Southeast University)
資料名： Dongnan Daxue Xuebao (Ziran Kexue Ban)  (Dongnan Daxue Xuebao (Ziran Kexue Ban))
巻： 46  号： 5  ページ： 977-981  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0606A  ISSN： 1001-0505  CODEN： DDXZB9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 第3世代の遺伝子配列決定の要求に対して、大規模な窒化ケイ素薄膜膜の製造技術を提案した。異なる膜厚をもつ膜の応力を測定することにより,100NMの最適厚さをもつナノ孔を作製した。高収率の窒化ケイ素薄膜を,低圧化学蒸着,反応性イオンエッチング,および放出プロセスによって調製した。これに基づき、集束イオンビームと高エネルギー電子ビームを用いて、窒化ケイ素薄膜のナノ孔の製造を実現した。集束イオンのエッチング時間,電流とナノの直径の関係を研究した。実験結果により、集束イオンビームを用いて、窒化ケイ素薄膜の厚さが40NM以下に薄くなると、ナノ孔を作る効果がより良いことが分かった。集束イオンビームによって製造した窒化ケイ素薄膜の最小直径は26NMであり,電子ビームの最小直径は3.5NMであった。この方法は,固体ナノ孔に基づくDNA配列決定のための強力な支援を提供した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 窒化ケイ素 ,  エッチング ,  *生産技術 ,  膜厚 ,  LPCVD ,  集束 ,  電子ビーム ,  RIE【エッチング】 ,  イオン ,  窒化 ,  *薄膜 ,  集束イオンビーム
準シソーラス用語： 高エネルギー電子 ,  シリコン薄膜 ,  ナノ細孔 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： silicon nitride ,  nanopore ,  focused ion beam ,  electron beam

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： SiN ,  薄膜 ,  製造技術 ,  実験 ,  研究