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J-GLOBAL ID：201702278525568455   整理番号：17A0289860

光化学作用を持つEUVマスク点検のための走査コヒーレント散乱法

Scanning Coherent Scattering Methods for Actinic EUV Mask Inspection

著者 (7件)： EKINCI Y. (Paul Scherrer Inst., Villigen, CHE) ,  HELFENSTEIN P. (Paul Scherrer Inst., Villigen, CHE) ,  RAJEEV R. (Paul Scherrer Inst., Villigen, CHE) ,  MOCHI I. (Paul Scherrer Inst., Villigen, CHE) ,  MOHACSI I. (Paul Scherrer Inst., Villigen, CHE) ,  GOBRECHT J. (Paul Scherrer Inst., Villigen, CHE) ,  YOSHITAKE S. (NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9985  ページ： 99851P.1-99851P.9  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 解像度,感度,スループットを目標仕様として持つEUVリソグラフィーの光化学作用マスクの点検は,大量生産でのEUVLの連続挿入にとって残された大きな問題であり,有効な解決法が望まれている。この論文では,走査コヒーレント散乱法に基づいた光化学作用マスクの点検法を提案する。この方法は,マスクの空中化学作用映像の振幅と位相を高数値開口レンズを用いずに高解像度で得ることができる。実際この方法により実機で実験した結果,ウェハ上で10nmの解像度が得られた。始めにマスクの回折パターンを記録し,ダイまたはデータベースと比較し,欠陥信号として解釈する。高信号対雑音比および高スループットの化学作用マスクの点検に対するフーリエ領域技術の原理について議論した。

シソーラス用語： *マスク ,  *点検 ,  *フォトリソグラフィー ,  光化学 ,  *干渉性散乱 ,  *光走査 ,  振幅 ,  位相 ,  開口数 ,  レンズ ,  分解能 ,  Fourier変換 ,  スループット ,  SN比
準シソーラス用語： *EUVマスク ,  EUVリソグラフィー ,  コヒーレント散乱 ,  光学走査 ,  高開口数 ,  解像度

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： EUVマスク ,  点検 ,  走査 ,  コヒーレント散乱