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J-GLOBAL ID：201702284368366982   整理番号：17A0314827

高温度での水溶液中におけるSiO_2~-ZrO_2膜のナノろ過性能【Powered by NICT】

Nanofiltration performance of SiO₂-ZrO₂ membranes in aqueous solutions at high temperatures

著者 (4件)： Puthai Waravut (Department of Chemical Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Kanezashi Masakoto (Department of Chemical Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Nagasawa Hiroki (Department of Chemical Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Tsuru Toshinori (Department of Chemical Engineering, Hiroshima University, 1-4-1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739-8527, Japan)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 168  ページ： 238-247  発行年： 2016年08月10日 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高温におけるナノろ過性能を,200と550°Cで焼成したSiO_2~-ZrO_2膜を用いて調べた。SiO_2~-ZrO_2膜は4時間の90°Cの水で処理した後,両膜の25°Cで水透過性(L_p)は約3倍に増加し,100時間の長い処理のための一定のままであり,90°Cの水溶液中での安定性を示した。膜の水透過性の増加は90°Cでの水へのシリカの増加した親水性と溶解に起因した。550°Cで焼成したSiO_2~-ZrO_2膜の分子量カットオフ(MWCO)は,処理時間(MWCOs=300)によって変化しなかったが,200°Cで焼成したSiO_2~-ZrO_2膜のMWCOは240から300まで増加した。550°Cで焼成したSiO_2~-ZrO_2膜は200°Cで焼成したものより高い水熱安定性を示した。SiO_2~-ZrO_2膜性能に及ぼす温度の影響は25 90°Cの温度範囲でナノろ過のための評価した。グルコースとマルトースの除去率は,200および550°Cで焼成した両SiO_2~-ZrO_2膜温度の上昇と共に減少したが,透過流束は増加した。一方,温度はラフィノースの除去への影響は常に95%より大きいを持っていない。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 親水性 ,  *ナノ濾過 ,  分子量 ,  透水性 ,  透過流束 ,  *高温 ,  二酸化ケイ素 ,  加工時間 ,  *水溶液 ,  ガラクトシド ,  ピラノシド ,  フラノシド ,  グルコシド ,  三糖類 ,  フルクトオリゴ糖 ,  二糖類 ,  還元糖 ,  ヘキソース ,  アルドース
準シソーラス用語： 除去率 ,  水熱安定性 ,  カットオフ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： SiO_2~-ZrO_2膜 ,  ナノろ過 ,  高温度 ,  水熱安定性

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (3件)： ラフィノース ,  マルトース ,  グルコース

タイトルに関連する用語 (3件)： 高温度 ,  水溶液 ,  ろ過性能