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J-GLOBAL ID：200902165227519810   整理番号：02A0508857

RFマグネトロンスパッタ法によるB-C-N薄膜の合成

Preparation of B-C-N Films by RF Magnetron Sputtering.

著者 (4件)： 百瀬英明 (東京工大 大学院) ,  YANG X-D (東京工大 大学院) ,  安原鋭幸 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  大竹尚登 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： 日本機械学会論文集 C編  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C)
巻： 68  号： 669  ページ： 1562-1568  発行年： 2002年05月25日 
JST資料番号： F0045B  ISSN： 0387-5024  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： DLC膜は高硬度・低摩擦係数を有する膜として,またcBN膜は...

シソーラス用語： *RFスパッタリング ,...

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分類 (1件)： 気相めっき  (WC08022K)

引用文献 (19件)：

• AISENBERG, S. J. Appl. Phys. 1971, 42, 2953
• MIYAKE, S. Diamond Films and Technol. 1994, 3, 3, 167
• GRILL, A. Diamond Films and Technol. 1994, 1, 4, 219
• CLAY, K. J. Diamond and Related Mater. 1998, 7, 1100
• MOUNIER, M. Diamond and Related Mater. 1996, 5, 1509

タイトルに関連する用語 (2件)： RFマグネトロンスパッタ法 ,  薄膜