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J-GLOBAL ID：200902200035178750   整理番号：06A0932040

RFプラズマCVD法によるアモルファス炭素膜の電気的特性評価

著者 (3件)： 西英隆 (東京工大 大学院) ,  赤坂大樹 (東京工大 大学院) ,  大竹尚登 (東京工大 大学院)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2006  号： 春季(CD-ROM)  ページ： I07  発行年： 2006年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *非晶質 ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： RFプラズマ ,  CVD法 ,  アモルファス ,  炭素膜 ,  電気的特性 ,  評価