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J-GLOBAL ID:200902201729855593   整理番号:08A1180862

希薄酸素雰囲気中におけるSi3N4/SiC複合材のき裂治癒挙動

Crack-Healing Behavior of Si3N4/SiC Composite under Low Oxygen Partial Pressure
著者 (5件):
資料名:
巻: 57  号: 11  ページ: 1132-1137 (J-STAGE)  発行年: 2008年 
JST資料番号: F0385A  ISSN: 0514-5163  CODEN: ZARYA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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自己亀裂治癒能力が優れたSi3N4/SiC複合材の亀裂治癒挙動に及ぼす酸素分圧の影響を検討した。希薄酸素(酸素分圧=50Pa)雰囲気でも1300°C/10hで完全に治癒され,熱処理平滑材と同等の強度まで回復した。炭素の還元雰囲気においての強度回復は,残留応力の開放によるものと考えられた。希薄酸素雰囲気において,長時間または1400°Cでは粒界腐食により強度は低下した。
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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セラミック・磁器の性質 
引用文献 (14件):

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