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J-GLOBAL ID：200902203723618436   整理番号：09A0069474

ダメージフリープラズマ源を用いた親水化処理実験と分光特性測定

Hydrophilization treatment by a damage-free plasma source and spectroscopic measurement

著者 (6件)： 山崎正太郎 (東京工大) ,  佐々木良太 (東京工大) ,  宮原秀一 (東京工大) ,  嶋田隆一 (東京工大) ,  堀田栄喜 (東京工大) ,  沖野晃俊 (東京工大)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-08  号： 76-97  ページ： 17-20  発行年： 2008年12月19日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 大気圧プラズマでは,排気装置や真空装置を使用せずに低コストで高速なプラズマプロセシングが可能であり,広く工業的応用が進んでいる。しかし金属表面を処理する場合は,プラズマ源近傍に金属試料を置くとアークが発生する。そこで試料に損傷を生じない高速金属表面浄化・処理用のプラズマ源を開発した。放電特性を発光分光で観測した。銅試料で性能評価試験を実施し,1秒未満で表面を親水化処理可能であることを実証した。

シソーラス用語： *プラズマ処理 ,  表面改質 ,  親水性 ,  プラズマ分光
準シソーラス用語： *プラズマプロセシング ,  大気圧プラズマ

分類 (3件)： 気体放電  (BJ03020T) ,  プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (5件)：

• H. Miyahara, T. Kageyasu, W Kumagai, K. Takimoto, E. Hotta, R. Shimada, A. Okino: “Multi-gas high purity plasma source for reduce to atmospheric plasma processing”, The Sixth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, p. 312, P4009(2007).
• Y. Nagata, H. Miyahara, E. Hotta and A. Okino: “Analytical Performances of High Power Pulse Multi-gas Microplasma Source”, 2008 Winter Conference on Plasma Spectrochemistry, Th06(2008).
• W. Kumagai, H. Miyahara, E. Hotta, A. Okino: “Atmospheric line remote plasma source for surface treatmen”’, The Sixth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, p. 310, P4007(2007).
• Z. Fang, X. Qiu, Y. Qiu, E. Kuffel: “Dielectric Barrier Discharge in Atmospheric Air for Glass-Surface Treatment to Enhance Hydrophobicity”, IEEE Trans on Plasma Sci., 34, 4, pp. 1216-1222(2006).
• Y. Yanagisawa, Y. Yoshioka: “Remote Surface Modification of Plastics by Atmospheric Barrier Discharge”, T. IEE Japan, 127-A, 6, pp 303-308(2007).

タイトルに関連する用語 (5件)： ダメージ ,  プラズマ源 ,  親水化処理 ,  実験 ,  分光特性