文献

J-GLOBAL ID：200902208635777984   整理番号：09A0334204

液中プラズマ化学蒸着を用いたダイヤモンドの合成

Synthesis of Diamond Using In-Liquid Plasma Chemical Vapor Deposition

著者 (6件)： TAKAHASHI Yoshiyuki (Ehime Univ., Matsuyama, JPN) ,  TOYOTA Hiromichi (Ehime Univ., Matsuyama, JPN) ,  NOMURA Shinfuku (Ehime Univ., Matsuyama, JPN) ,  MUKASA Shinobu (Ehime Univ., Matsuyama, JPN) ,  INOUE Toru (Ehime Univ., Matsuyama, JPN) ,  OKUDA Shinya (Toyota Ind. Corp., Aichi, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 48  号： 3,Issue 1  ページ： 031601.1-031601.6  発行年： 2009年03月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 液中プラズマ化学蒸着(CVD)を用いたダイヤモンドの合成を研究した。メタノール溶液中のプラズマは,2.45GHzのマイクロ波放射を適用して発生した。溶液組成と容器圧力を実験パラメータとして変えた。液体自体の冷却効果のため本プロセスに基板の冷却装置は不要であった。Si基板上の堆積は走査電子顕微鏡(SEM)とRaman分光法によって確認した。192μm/hの成長速度を確認した,不純物を含むダイヤモンド膜を得た。堆積物は15~80GPaの十分な硬度を有し,工業用硬質被膜に適している。堆積速度はシステム圧力を上げると増加し,従来のマイクロ波CVDと同じ傾向を表した。発光分光法を用いて,化学反応の液中プラズマを評価した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： プラズマCVD ,  *ダイヤモンド ,  *プラズマ合成 ,  マイクロ波 ,  化学組成 ,  圧力 ,  冷却 ,  基板 ,  ケイ素 ,  走査電子顕微鏡 ,  Raman分光法 ,  成長速度 ,  不純物 ,  薄膜 ,  硬度 ,  発光分光法 ,  化学反応 ,  脂肪族アルコール ,  液中 ,  *鉱石 ,  *宝石

分類 (1件)： 薄膜一般  (BK14010X)

物質索引 (1件)： メタノール

引用文献 (26件)：

• Y. Mokuno, A. Chayahara, Y. Soda, Y. Horino, and N. Fujimori: Diamond Relat. Mater.14(2005)1743.
• J. Zimmer and K. V. Ravi: Diamond Relat. Mater.15(2006)229.
• V. Buck and N. Woehrl: Jpn. J. Appl. Phys.47(2008)8208.
• H. Gamo, K. Shimada, M. Nishitani-Gamo, and T. Ando: Jpn. J. Appl. Phys.46(2007)6267.
• R. Pfeiffer, H. Kuzmany, P. Knoll, S. Bokova, N. Salk, and B. Gunther: Diamond Relat. Mater.12(2003)268.

タイトルに関連する用語 (3件)： 液中プラズマ ,  化学蒸着 ,  ダイヤモンド