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J-GLOBAL ID：200902212153209285   整理番号：06A0408519

ポリシロキサンおよび光応答性ブロックからなるブロック共重合体単分子膜の相分離構造

2D Microphase Separation of Photofunctional Block Copolymer with polysiloxane in the Monolayer.

著者 (8件)： 青木健二 (名大 院) ,  門田総平 (名大 院) ,  門田総平 (JST-CREST) ,  岩田孝文 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  永野修作 (JST-CREST) ,  関隆広 (名大 院) ,  関隆広 (JST-CREST)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 86th  号： 1  ページ： 461  発行年： 2006年03月13日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリジメチルシロキサンセグメントとアゾベンゼンセグメントから...

シソーラス用語： *ポリシロキサン ,...
準シソーラス用語： ATRP

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分類 (3件)： 高分子溶液の物理的性質  (CG02013S) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

物質索引 (1件)： 2-メチルプロペン酸10-[4-(4-ヘキシルフェニルアゾ)フェノキシ]デシル

タイトルに関連する用語 (5件)： ポリシロキサン ,  光応答 ,  ブロック共重合体 ,  単分子膜 ,  相分離